Hoogzuivere, op maat gemaakte koperen targets (4N-6N)

Korte beschrijving:

Productspecificaties
Naam: Geëxtrudeerd, zeer zuiver koperen sputterdoelwit
Standaard: ASTM F68 (zuurstofvrij elektronisch koper), ASTM B115, zuiverheid ≥99,99% (4N-6N), RoHS-conform, REACH-conform
Materiaal: C10100 (OFHC-koper), C10200 (zuurstofvrij koper), zeer zuiver koper (4N/5N/6N)
Oppervlaktebehandeling: Precisiegefreesd/gepolijst, Ra ≤0,5 μm, optionele verlijming aan een achterplaat.
Doorsnede: Profielen met een aangepaste vorm (bijv. rechthoekig, buisvormig, getrapt of complexe geometrieën)
Lengte: 500 mm – 3500 mm
Dikte/Breedte: 5 mm – 200 mm (afhankelijk van het profielontwerp)
Productkenmerken: Ultrahoge zuiverheid met gecontroleerd lage onzuiverheden · Dichte en uniforme microstructuur door extrusieproces · Mogelijkheid om complexe geometrieën te vormen die niet mogelijk zijn met standaard bewerkingstechnieken · Uitstekende thermische en elektrische geleidbaarheid · Constante sputteringssnelheid over gevormde oppervlakken · Hoog materiaalgebruik en filmuniformiteit · Minimale defecten en lage deeltjesvorming
Toepassingsgebieden: Dunnefilmzonnepanelen met groot oppervlak, coatings voor architectuur- en autoglas, flexibele elektronica en roll-to-roll-depositie, geavanceerde optische filters en spiegels, halfgeleiderbarrièrelagen die gevormde bronnen vereisen, display-backplanes en aanraaksensoren, decoratieve en functionele coatings op onregelmatige substraten, krachtige magnetronsystemen met aangepaste targetontwerpen.

Stuur ons een e-mail.

Productdetails

Productlabels

Video

Proces- en kwaliteitsborgingsverklaring voor geëxtrudeerd, zeer zuiver koperen sputterdoel.

Onze geëxtrudeerde koperen vormtargets zijn speciaal geproduceerd voor toepassingen die complexe geometrieën en een uniforme afzetting op niet-standaard oppervlakken vereisen, waar conventionele vlakke targets tekortschieten.

Belangrijkste proceskenmerken

De extrusiemethode garandeert superieure materiaaleigenschappen en vormvastheid:
●Hoogwaardig uitgangsmateriaal: Geselecteerd elektrolytisch koper met aantoonbaar lage zuurstof- en onzuiverheidsgehaltes.
●Vacuümsmelten en -legeren: Herhaaldelijk vacuüminductiesmelten zorgt voor een homogene samenstelling met een zuiverheid van 4N-6N.
●Voorbereiding van de knuppels: Gieten tot cilindrische knuppels, gevolgd door homogenisatie voor een uniforme korrelstructuur.
●Hete extrusie: Nauwkeurige hete extrusie door middel van op maat gemaakte matrijzen vormt complexe dwarsdoorsneden met uitstekende dichtheid en vloei-eigenschappen.
●Koudvervorming en gloeien: Gecontroleerd trekken en warmtebehandeling verfijnen de structuur en verminderen spanningen.
●Nauwkeurige afwerking: CNC-bewerking en oppervlaktepolijsten zorgen voor gladde sputtervlakken op alle profieloppervlakken.
●Verbindingsservice: Optionele verbinding met indium met een laag smeltpunt op compatibele steunbuizen of -platen.
●Handling in cleanrooms: Eindreiniging en vacuümverpakking voorkomen besmetting.

Kwaliteitscontrolesysteem

● Volledige traceerbaarheid van ruwe koperkathode tot afgewerkt gevormd doelwit
● Een uitgebreid certificeringspakket is bij elke levering inbegrepen.
● Archiefmonsters worden ≥3 jaar bewaard voor analyse door derden (SGS, BV, enz.)
● 100% inspectie van essentiële kenmerken:
• Zuiverheids- en elementanalyse (GDMS/ICP-MS; typisch zuurstofgehalte <5 ppm)
• Dichtheidsverificatie (>99% theoretisch via extrusie)
• Microstructuur en korreluniformiteit (metallografisch onderzoek)
• Dimensionale nauwkeurigheid van het profiel (3D CMM; toleranties ±0,1 mm typisch)
• Oppervlakteafwerking en gebrekenvrije staat (profilometer + visuele controle)
● De interne normen overtreffen de ASTM F68-vereisten. Typische extrusie-eigenschappen: Superieure geleidbaarheid >400 W/m·K, uitstekende vormvastheid tijdens sputteren, consistente prestaties in complexe magnetronconfiguraties.
● Cleanroom-compatibele processen en ISO 9001:2015-gecertificeerde productie garanderen betrouwbare, hoogwaardige resultaten die zijn afgestemd op uw specifieke coatingbehoeften.