Hoogzuivere koperen sputtertargets – Vierkant (4N-6N)

Hoogzuivere koperen sputterdoelen – Vierkant (4N-6N) Uitgelichte afbeelding

Korte beschrijving:

Productspecificaties
Naam: Hoogzuiver koper sputterdoelwit
Standaard: ASTM F68 (zuurstofvrij elektronisch koper), ASTM B115, zuiverheid ≥99,99% (4N-6N), RoHS-conform, REACH-conform
Materiaal: C10100 (OFHC-koper), C10200 (zuurstofvrij koper), zeer zuiver koper (4N/5N/6N)
Oppervlaktebehandeling: Precisiegeslepen/gepolijst, Ra ≤0,4 μm, optionele indium/tin-binding aan de achterplaat.
Afmetingen: 100 mm × 100 mm tot 600 mm × 600 mm (aangepaste vierkante afmetingen) Dikte: 3 mm – 50 mm
Zuiverheidsniveau: 99,99% – 99,9999%
Productkenmerken: Uitzonderlijke zuiverheid met een laag zuurstof- en onzuiverheidsgehalte · Superieure thermische en elektrische geleidbaarheid · Uniforme korrelstructuur voor consistent sputteren · Hoge dichtheid (>99,5% theoretisch) · Uitstekende filmhechting en uniforme afzetting · Lage deeltjesgeneratie · Lange levensduur van het target en hoge benuttingsgraad
Toepassingsgebieden: Halfgeleider-interconnectielagen, dunnefilmzonnecellen (CIGS/CdTe), platte beeldschermen (TFT-LCD), optische coatings en spiegels, decoratieve PVD-coatings, magnetische gegevensopslag, ruimtevaart- en automobielcomponenten, onderzoeks- en ontwikkelingslaboratoria.

Stuur ons een e-mail.

Productdetails

Productlabels

Verklaring inzake proces- en kwaliteitsborging voor sputtertargets van zeer zuiver koper

Onze vierkante koperen sputtertargets worden vervaardigd volgens de strenge normen die vereist zijn voor betrouwbare dunnefilmdepositie in geavanceerde coatingprocessen.
De productie volgt een strikt gecontroleerd vacuümproces om een extreem hoge zuiverheid en materiaalconsistentie te garanderen:
●Selectie van grondstoffen: Alleen gecertificeerde elektrolytische koperkathodes (≥99,99%) worden als uitgangsmateriaal gebruikt.
●Vacuümsmelten: Inductiesmelten onder hoog vacuüm of inerte atmosfeer minimaliseert de opname van zuurstof en vluchtige onzuiverheden.
●Gieten en raffineren: Gecontroleerde, gerichte stolling produceert staven met een homogene samenstelling en minimale segregatie.
●Warm bewerken: Door smeden of warm persen wordt een dichtheid bereikt die dicht bij de theoretische waarde ligt en een verfijnde korrelstructuur verkregen.
●Precisiebewerking: CNC-frezen en -slijpen zorgen voor nauwkeurige, vierkante afmetingen met vlakke, parallelle oppervlakken.
●Oppervlakteafwerking: Meerstaps polijsten zorgt voor een spiegelgladde afwerking die geschikt is voor gebruik in cleanrooms.
●Optionele verbinding: Verbinding met indium of elastomeer op molybdeen/koperen achterplaten is beschikbaar voor thermisch beheer.
●Eindreiniging en verpakking: Ultrasone reiniging in ultrazuiver water, gevolgd door vacuümverpakking in dubbellaags schone zakken.

Kwaliteitscontrolesysteem

● Volledige traceerbaarheid van de ruwe kathodepartij tot het uiteindelijke doelproduct
● Materiaalcertificaten en testrapporten worden bij elke zending meegeleverd.
● Bewaring van archiefmonsters gedurende ≥3 jaar voor verificatie door derden (SGS, BV, enz.)
● 100% inspectie van kritische parameters:
• Zuiverheid en onzuiverheden (GDMS/ICP-MS-analyse; typisch zuurstofgehalte <10 ppm)
• Dichtheidsmeting (Archimedes-methode; ≥99,5%)
• Korrelgrootte en microstructuur (metallografisch onderzoek)
• Maatnauwkeurigheid (CMM; vlakheid ≤0,05 mm typisch)
• Oppervlakteruwheid en defecten (profilometer + visuele inspectie)
● De interne specificaties overtreffen de ASTM F68-vereisten. Typische eigenschappen: thermische geleidbaarheid >390 W/m·K, elektrische weerstand <1,7 μΩ·cm, constante sputteringssnelheid en filmkwaliteit.
● Cleanroom-compatibele processen en een ISO 9001:2015-gecertificeerde faciliteit garanderen dat elk doel voldoet aan de hoge eisen van moderne PVD-toepassingen.